产品详情
负性光敏DG5010/DG5020产品,有良好的图形化能力,通过高温交联和酰亚胺化后所得的聚酰亚胺膜具有优异的耐热性、尺寸稳定性、力学特性和耐化学性等。可用作先进封装bumping,RDL工艺等的钝化绝缘层和缓冲层。
关键词:封装光刻胶
上一条: 没有了!
下一条: 临时键合胶
封装光刻胶
ghi线曝光;
分辨率5μm~10μm;
覆盖高/低温固化PSPI;
膜厚5μm~15μm;
固化温度200℃~400℃;
具备优异的电学、力学性能和Cu附着力
相关产品
集成电路材料
CMP制程材料
半导体先进封装
半导体显示材料
OLED
-
YPI
粘度4000cP~7000cP;
固含量10%~20%;
膜厚5μm~15μm固化温度450℃~480℃;
1%失重温度>560℃;
具备优异的力学光学性能 -
PSPI
ghi线曝光;
分辨率2μm~3μm;
覆盖高/低感光度PSPI;
膜厚1μm~5μm;
固化温度250℃~280℃;
具备优异的光学、力学性能 -
TFE INK
粘度20cP~22cP;
水分<50ppm;
395nmUV固化;
膜厚6μm~15μm;
具备优异的光学性能 -
BPDL
分辨率5μm;
粒径50~70nm;
固化温度250℃~280℃;
膜厚1μm~5μm;
OD(光密度)>1/μm -
无氟PSPI
ghi线曝光;
分辨率2μm~3μm;
覆盖高/低感光度PFAS free PSPI;
膜厚1μm~5μm;
固化温度250℃~280℃;
具备优异的光学、力学性能
MICRO-LED
锂电高端功能性辅材
功能助剂
-
润湿分散剂HFW-118
1、制浆效率提升10-20%;
2、涂布外观明显改善。 -
碳源分散剂HFF-1176
1、浆料固含提升5-6%;研磨效率提升20%;
2、碳含量相同下,粉阻小于10. -
分散剂HFF-2808
1、提高浆料固含量:3-6个点;
2、降低辊压:降低20%;
3、改善柔性:1次以上;
4、提升压实:0.03-0.05 -
分散剂HFF-29XX系列
1、适配性强:可适配不同工艺路线LFP和不同类型PVDF;
2、降粘提固稳粘:LFP浆料固含提高至65%以上,浆料粘度保持稳定反弹小;
3、极片压实提升0.03-0.1%;柔性提升20-30%。 -
防开裂助剂HFW-110
1、适配80m/min以上快涂工艺;
2、抗开裂效果提升20-30%,极片良率提升。
打印复印通用耗材
在线留言
留下您想咨询的信息,我们会尽快联系您